石雕雕塑在市場很多領域都在使用，制作過程中要進行拋光，拋光可以很好地反應石雕的光澤度，更加美觀。拋光材料主要是氧化鉻（Cr2O3）、白剛玉（M1.0）、氧化鋁（Al2O3）、草酸（COOH2）。拋光磨石一般有兩種：樹脂拋光塊；樹脂拋光盤。

將拋光磨石放在被加工的產品上，用機械設備快速運轉及“幹拋光、濕拋光”來達到拋光效果，產品表面會出現很強的反射光，這是通常所說的光澤度。拋光的原理主要反映在2個方面：微粒研磨原理；物理化學原理。

當磨料顆粒由粗磨到粗磨、拋光時，磨料在石材表面磨削的痕跡由粗到細再到無肉眼看到的痕跡，表面便呈現光滑、平整、細膩，當深度達110微米時，被加工面出現鏡面光澤，光彩照人，色澤鮮艷。拋光的過程有2個，即“幹拋光與濕拋光”。

石雕雕塑，

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拋光磨石在“幹與濕”之間當石材產品發生物理化學作用，幹拋光是在石材表面溫度升高使水分蒸發，導致拋光磨石濃度增大，從而達到強化效果，產品光澤度開始達到了理想要求，光澤度達85度以上或更高。

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拋光磨石在被加工產品上拋光，待拋光產品燙手後，將板面加水量水，以起到降溫作用，不允許連續加水或大量加水，否則水的潤滑作用將會使拋光達不到理想效果，也不能全部使用幹拋光，過高的溫度會燒壞板面，而且會使板面出現裂紋。

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一般而言，產品精磨後，產品的光澤度在40~50左右，而有些石材精磨後達不到上面的光澤度，此類產品精磨後的光澤度只有20~30度之間，用前面的微粒研磨原理解釋不夠一面，這種產品在拋光“幹與濕”，溫度的升高，降溫中，強化拋光過程，發生物理化學反應，產品在經過“幹拋光、濕拋光”中，光澤度逐步提高，光澤度達85度以上。